分散剂
产品名称
主要成分
特点/优点
应用范围
EDAPLAN 422
阴离子型高分子共聚物
有效降低研磨粘度,特别适用于炭黑的分散
EDAPLAN 430
阴离子型高分子共聚物
含有与颜料结合的基团,适用于有机、无机颜料和炭黑的分散,不含VOC
EDAPLAN 426
聚羧酸盐
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于钛白粉和填料的分散
EDAPLAN 425
阴离子型高分子共聚物
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于有机、无机颜料的分散
EDAPLAN 422
阴离子型高分子共聚物
有效降低研磨粘度,特别适用于炭黑的分散
EDAPLAN 430
阴离子型高分子共聚物
含有与颜料结合的基团,适用于有机、无机颜料和炭黑的分散,不含VOC
EDAPLAN 426
聚羧酸盐
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于钛白粉和填料的分散
EDAPLAN 425
阴离子型高分子共聚物
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于有机、无机颜料的分散
EDAPLAN 422
阴离子型高分子共聚物
有效降低研磨粘度,特别适用于炭黑的分散
EDAPLAN 430
阴离子型高分子共聚物
含有与颜料结合的基团,适用于有机、无机颜料和炭黑的分散,不含VOC
EDAPLAN 426
聚羧酸盐
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于钛白粉和填料的分散
EDAPLAN 425
阴离子型高分子共聚物
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于有机、无机颜料的分散
EDAPLAN 422
阴离子型高分子共聚物
有效降低研磨粘度,特别适用于炭黑的分散
EDAPLAN 430
阴离子型高分子共聚物
含有与颜料结合的基团,适用于有机、无机颜料和炭黑的分散,不含VOC
EDAPLAN 426
聚羧酸盐
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于钛白粉和填料的分散
EDAPLAN 425
阴离子型高分子共聚物
低起泡性,可应用于较宽的pH值范围,适用于有机、无机颜料的分散